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ASML財(cái)報(bào):浸沒(méi)光刻,宏觀壓力,獲利衰退
2008年7月20日  產(chǎn)通學(xué)院,365PR  

(產(chǎn)通社,7月16日)歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML Holding NV日前公布了第2季財(cái)報(bào):芯片業(yè)者延期擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃使設(shè)備出貨量下滑,導(dǎo)致稅前獲利驟減27%,同時(shí)調(diào)降今年?duì)I收預(yù)估。

ASML在聲明中表示,季度稅前營(yíng)運(yùn)獲利減至1億5720萬(wàn)歐元 (2億5020萬(wàn)美元),銷售衰退9.3%至8億4420萬(wàn)歐元。

ASML表示,將會(huì)把浸沒(méi)式光刻技術(shù)(Immersion Lithography)發(fā)展到極限,其新型TWINSCAN XT:1950i設(shè)備性能提高了25%,能使亞40nm芯片批量成像。

ASML是全球第 3大半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)者,僅次于美國(guó)應(yīng)用材料(Applied Materials Inc.)與日本的Tokyo Electron Ltd.。

    
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