在全球半導(dǎo)體行業(yè)化學(xué)機(jī)械研磨（CMP）技術(shù)及創(chuàng)新方面處于領(lǐng)先地位的羅門哈斯電子材料公司CMP技術(shù)事業(yè)部近日宣布其IC1000研磨墊產(chǎn)品線又增添了兩大生力軍。這兩款新品應(yīng)用了先進(jìn)的溝槽技術(shù)，可有效降低量產(chǎn)缺陷率和設(shè)備擁有成本。 

IC1000 AT低缺陷率研磨墊（IC1000 AT Defect Reduction Pad）采用已獲專利的新型溝槽設(shè)計(jì)。該技術(shù)是對晶圓級和溝槽級流體力學(xué)原理的最佳應(yīng)用，可有效減少產(chǎn)品缺陷率。常數(shù)區(qū)溝槽可消除晶圓所承受的局部壓力，最大程度地減少晶圓被劃傷或產(chǎn)生缺陷的可能性，在200及300毫米平臺作業(yè)時最高可降低50％的缺陷率。IC1000 AT低缺陷率研磨墊專為無意改變研磨墊材料，但對降低產(chǎn)品缺陷率有迫切需求的客戶設(shè)計(jì)。

IC1000 AT長壽命研磨墊（IC1000 AT Long Life Pad）可有效降低設(shè)備擁有成本，延長工具的正常運(yùn)行時間。該研磨墊經(jīng)過特別設(shè)計(jì)，硬度適中，可確保合適的研磨液流量，并能在不增加研磨液消耗的情況下提供穩(wěn)定的性能。此外，其最優(yōu)化的溝槽設(shè)計(jì)可延長30%的使用壽命，確保用戶在進(jìn)行各種設(shè)備量產(chǎn)時獲得更低的整體成本和更高的產(chǎn)量。

“這次推出的兩款研磨墊，豐富了我們原有的IC1000研磨墊產(chǎn)品線，滿足了90納米以下級別半導(dǎo)體設(shè)備制造商不斷變化的生產(chǎn)需求，”羅門哈斯電子材料公司CMP技術(shù)事業(yè)部副總裁Cathie Markham表示�！拔覀儾⑽词褂闷渌滦脱心|材料，而是通過先進(jìn)的設(shè)計(jì)使這兩款新型研磨墊具備更長的使用壽命和更佳的性能。低缺陷率研磨墊通過應(yīng)用具有突破性的溝槽技術(shù)大幅降低了產(chǎn)品缺陷率，而長壽命研磨墊則為用戶提供了極具競爭力的成本優(yōu)勢�！�

羅門哈斯電子材料公司為光電行業(yè)開發(fā)和提供創(chuàng)新材料解決方案及工藝，其產(chǎn)品及技術(shù)主要應(yīng)用于電路板、半導(dǎo)體制造及先進(jìn)封裝行業(yè)，并已成為全球電子設(shè)備的重要組成部分。詳情請登陸http://electronicmaterials.rohmhaas.com。