【產(chǎn)通社，2月23日訊】Gigaphoton株式會(huì)社消息，其新發(fā)布的GT65A液浸曝光（光刻）裝置專用ArF準(zhǔn)分子激光器，可實(shí)現(xiàn)最先進(jìn)的液浸曝光處理的細(xì)微化支持和減少對(duì)環(huán)境的影響。Gigaphoton計(jì)劃以GT65A為代表，參展自2月26日（美國(guó)時(shí)間）起到3月2日于美國(guó)加利福尼亞州圣何塞市舉辦的先進(jìn)曝光國(guó)際論壇（SPIE Advanced Lithography 2017）。

Gigaphoton董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理都丸仁說：“本公司的新產(chǎn)品GT65A是Gigaphoton為不斷向細(xì)微化發(fā)起挑戰(zhàn)的半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)提供的解決方案之一，同時(shí)也是本公司成立以來對(duì)業(yè)界不變的承諾以及對(duì)曝光機(jī)生產(chǎn)廠商所做貢獻(xiàn)的證明。我們今后仍將一如既往地持續(xù)對(duì)提高曝光性能的專用技術(shù)進(jìn)行投資�！�


產(chǎn)品特點(diǎn)


GT65A對(duì)Gigaphoton的ArF平臺(tái)的特征——卓越的頻譜控制技術(shù)進(jìn)行了進(jìn)一步升級(jí)換代，支持1X nm（納米）以下的細(xì)微化工藝，并且依照標(biāo)準(zhǔn)配置了減少對(duì)環(huán)境影響的技術(shù)以及該公司的氖氣回收設(shè)備——“hTGM”，此設(shè)備在任何運(yùn)轉(zhuǎn)條件下均可進(jìn)行無氦運(yùn)轉(zhuǎn)。

在GT65A的頻譜控制方面依照標(biāo)準(zhǔn)配置了兩項(xiàng)最新技術(shù)。其中之一就是eMPL Solid。與以往的機(jī)型相比，eMPL Solid的頻譜性能的穩(wěn)定性提高了4倍，每個(gè)曝光區(qū)域均以±5fm（飛米）的高水平實(shí)現(xiàn)了頻譜寬度（E95）的穩(wěn)定性，為CD均勻性的提高做出了貢獻(xiàn)。另外一種最新技術(shù)hMPL，它可以將頻譜寬度控制在450-200fm的范圍內(nèi)，依照工藝流程對(duì)頻譜寬度進(jìn)行了優(yōu)化，為工藝窗口的最大化做出了貢獻(xiàn)。

另外，GT65A依照標(biāo)準(zhǔn)配置的無氦及hTGM技術(shù)是采用Gigaphoton的EcoPhotonTM程序開發(fā)的，不僅能夠減少對(duì)環(huán)境的影響，還可以大幅減少將來氦氣和氖氣的短缺及價(jià)格風(fēng)險(xiǎn)，為客戶的可持續(xù)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。


供貨與報(bào)價(jià)


ArF準(zhǔn)分子激光器將于2017年內(nèi)上市。查詢進(jìn)一步信息，請(qǐng)?jiān)L問官方網(wǎng)站http://www.gigaphoton.com，以及http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography。    （完）