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英特爾22納米FinFET低功耗(22FFL)技術(shù)面向主流市場(chǎng)
2017/10/21 14:23:02     

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【產(chǎn)通社,10月21日訊】英特爾公司(Intel Corporation;NASDAQ股票代碼:INTC)官網(wǎng)消息,其自2011年發(fā)布代號(hào)為Ivy Bridge的處理器以來(lái),一直在量產(chǎn)22納米FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管),而隨著2014年代號(hào)為Broadwell的處理器發(fā)布,第二代14納米FinFET也開(kāi)始量產(chǎn);诙嗄22納米/14 納米的制造經(jīng)驗(yàn),英特爾推出了稱(chēng)為22FFL(FinFET低功耗)的全新工藝。該工藝提供結(jié)合高性能和超低功耗的晶體管,及簡(jiǎn)化的互連與設(shè)計(jì)規(guī)則,能夠?yàn)榈凸募耙苿?dòng)產(chǎn)品提供通用的FinFET設(shè)計(jì)平臺(tái)。

與先前的22GP(通用)技術(shù)相比,全新22FFL技術(shù)的漏電量最多可減少100倍。22FFL工藝還可達(dá)到與英特爾14納米晶體管相同的驅(qū)動(dòng)電流,同時(shí)實(shí)現(xiàn)比業(yè)界28納米/22納米平面技術(shù)更高的面積微縮。

22FFL工藝包含一個(gè)完整的射頻(RF)套件,并結(jié)合多種先進(jìn)的模擬和射頻器件來(lái)支持高度集成的產(chǎn)品。借由廣泛采用單一圖案成形及簡(jiǎn)化的設(shè)計(jì)法則,使22FFL成為價(jià)格合理、易于使用可面向多種產(chǎn)品的設(shè)計(jì)平臺(tái),與業(yè)界的28納米的平面工藝(Planar)相比在成本上極具競(jìng)爭(zhēng)力。

迄今為止,英特爾已交付超過(guò)700萬(wàn)片F(xiàn)inFET晶圓,22FFL工藝充分利用這些生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),達(dá)到了極高的良品率。

英特爾晶圓代工業(yè)務(wù)(Intel Custom Foundry)通過(guò)平臺(tái)向客戶提供22FFL工藝,該平臺(tái)包含多種已驗(yàn)證的硅IP組合以及全面集成的一站式晶圓代工服務(wù)和支持。22FFL技術(shù)主要特點(diǎn)包括:
高性能晶體管:接近14納米工藝的高驅(qū)動(dòng)電流。
低漏電晶體管:比英特爾22通用(General Purpose)工藝低100倍的總漏電量。
裸片面積微縮:優(yōu)于業(yè)界28/22納米平面工藝技術(shù)。
模擬/射頻設(shè)計(jì):多種先進(jìn)模擬/射頻器件。
易于設(shè)計(jì):廣泛使用單一圖案成形。
裸片良品率:采用經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的22/14納米特性,獲得高良品率。
平臺(tái)就緒進(jìn)度:目前提供行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)PDK0.5及PDK1.0。
生產(chǎn)就緒進(jìn)度:2017年第四季度。
 
22FFL新技術(shù)適用于低功耗的物聯(lián)網(wǎng)和移動(dòng)產(chǎn)品,它將性能、功耗、密度和易于設(shè)計(jì)的特性完美結(jié)合。

查詢進(jìn)一步信息,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)官方網(wǎng)站https://newsroom.intel.cn/news-releases/press-release-2017-sep-30-01。    (完)
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