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RFMD MicroShield整合RF屏蔽技術(shù)可使體積降低50%
2008/4/12 12:34:02     RFMD公司

(產(chǎn)通社,2月19日訊)設(shè)計(jì)與制造高性能射頻系統(tǒng)與解決方案的全球領(lǐng)先者——RF Micro Devices, Inc.公司(Nasdaq股市代號(hào):RFMD)日前宣布,推出正在申請(qǐng)專利的MicroShield整合RF屏蔽技術(shù)。通過將RF屏蔽技術(shù)直接整合到RFIC或模塊中,RFMD的MicroShield整合RF屏蔽技術(shù)可消除對(duì)體積較大、成本較高的外部防護(hù)層的需求。這樣RFMD的MicroShield可將RF部分的高度和體積要求分別降低25%和50%,并可為客戶提供不受板布置影響的元件。

RF屏蔽技術(shù)降低了與電磁干擾(EMI)及射頻干擾(RFI)相關(guān)的輻射,并可將對(duì)外部磁場(chǎng)的敏感度降至最低。傳統(tǒng)RF屏蔽技術(shù)是使用封裝及保護(hù)電路板RF部分的外部金屬“罐”加以實(shí)施的。但這種實(shí)施成本高且非常耗時(shí),因?yàn)橛糜赗F屏蔽的這些“罐”必須根據(jù)單個(gè)電路板加以定制。此外,外部RF 防護(hù)層還增加了RF區(qū)域的空間要求,更重要的是,它們會(huì)降低基礎(chǔ)RF電路的性能。這種性能降低會(huì)產(chǎn)生應(yīng)對(duì)外部防護(hù)層的這些影響所需的非常耗時(shí)的重新調(diào)諧過程。

通過將與外部磁場(chǎng)的接觸降至最少,以及防止能量泄漏到主機(jī)設(shè)備的不必要區(qū)域,RFMD的MicroShield整合RF屏蔽可降低EMI及RFI的影響。而且,通過消除對(duì)板布置的敏感性,RFMD的MicroShield消除了電路重新調(diào)諧風(fēng)險(xiǎn),從而可縮短產(chǎn)品上市時(shí)間以及降低RF 實(shí)施成本。

在手機(jī)應(yīng)用中,對(duì)板布置的敏感性是一個(gè)關(guān)鍵因素,因?yàn)槭謾C(jī)設(shè)計(jì)者及制造商日益依賴手機(jī)平臺(tái)來滿足他們的時(shí)間及成本要求。由于EMI與RFI輻射通常是導(dǎo)致性能不一致的主要因素,因此在將這些平臺(tái)應(yīng)用到單獨(dú)手機(jī)設(shè)計(jì)中時(shí)會(huì)遇到性能問題。憑借RFMD的MicroShield,手機(jī)制造商能夠放置高度復(fù)雜的RF 模塊,因?yàn)樗鼈儗⑹侨缤皇蹺MI/RFI影響的任何元件,從而提供了對(duì)板設(shè)計(jì)與布局更改而言均非常強(qiáng)大可靠的真正“即插即用”解決方案。

使用MicroShield的手機(jī)制造商將獲得更高RF 性能、更低總體成本、更低板面空間要求及總體RF實(shí)施輕松性等優(yōu)勢(shì)。RFMD的MicroShield整合RF屏蔽技術(shù)適用于任何模壓(overmolded)封裝技術(shù),并且在RFMD的POLARIS 3 TOTAL RADIO解決方案中得到首次應(yīng)用。

更多關(guān)于RFMD的最新信息,請(qǐng)?jiān)L問http://www.rfmdnews.com。

    (完)
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