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上海光機所在脈寬壓縮光柵損傷方向取得重要進展
2018/7/3 15:11:58     

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【產(chǎn)通社,7月2日訊】中國科學院上海光學精密機械研究所(Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics)官網(wǎng)消息,其薄膜光學實驗室近日在脈寬壓縮光柵光致?lián)p傷方向研究取得重要進展。 

科研人員明確了金膜與基底材料的結(jié)合力是限制光柵閾值提高的主要原因,提出在石英光柵結(jié)構(gòu)基底鍍制金膜的方法以提升金光柵的損傷閾值,研究確定了“三明治”光柵的初始損傷位于HfO2層,并通過分析指出HfO2是限制金屬介質(zhì)光柵閾值提升的主要因素,為進一步提高其損傷閾值指明了方向?蒲腥藛T提出采用非對稱光柵結(jié)構(gòu)降低局部電場增強效應,采用雙底角光柵設計,使光柵在保持寬帶高衍射效率的同時,其電場增強極值減少21.3%,此結(jié)構(gòu)能夠有效提高光柵閾值。

脈寬壓縮光柵是啁啾脈沖放大(CPA)技術(shù)中的關(guān)鍵元件,其主要特點為寬帶寬、高衍射效率、高損傷閾值和大尺寸。隨著高功率激光裝置的發(fā)展,脈寬壓縮光柵抗激光損傷能力的提升至關(guān)重要,其直接影響著高功率激光裝置的輸出能力。 

該項研究得到了上?茖W技術(shù)委員會專項以及國家自然科學基金等的支持。相關(guān)研究成果發(fā)表在Optical Materials等著名期刊上。

查詢進一步信息,請訪問官方網(wǎng)站http://www.siom.cas.cn。(Lisa WU, 365PR Newswire)    (完)
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