【產通社，7月25日訊】上海華力微電子有限公司（Shanghai Huali Microelectronics Corporation）官網(wǎng)消息，其于4月26日世界知識產權日捧回了上海市知識產權局頒發(fā)的首屆上海市知識產權創(chuàng)新獎獎牌。

華力發(fā)明類專利“半導體器件的制造方法（ZL201310122105.X）”在首屆上海市知識產權創(chuàng)新獎的評選中斬獲殊榮。這既是對華力知識產權工作的肯定，也標志著華力知識產權工作經(jīng)過十年如一日的持續(xù)發(fā)力邁上了一個新的臺階。

上海市知識產權創(chuàng)新獎每三年評選一屆，是上海市人民政府與世界知識產權組織共同簽署《關于在知識產權領域發(fā)展合作的諒解備忘錄的補充協(xié)議》后設立的重要獎項。2019年上海市開展首屆知識產權創(chuàng)新獎的評選活動，各區(qū)知識產權局共推薦參選專利、商標項目227件，最終僅45件專利（包含發(fā)明、實用新型、外觀設計）與商標成功入圍獎項，其中，獲獎的發(fā)明類專利僅23件。

華力也是獲獎申請人中唯一的集成電路代工企業(yè)。2020年第一季度，華力共收到各技術部門專利提案近四百件；在做好安全防護的前提下組織開展多場專利評審會，對總計二百多件專利提案進行了內部評審，評審通過的專利提案絕大部分來自研發(fā)部門；已獲國內專利授權五十余件，更有多件專利獲得海外授權；還加大了先進工藝專利特別是28-14納米及以下的先進工藝專利的申請及海外布局。

查詢進一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://www.hlmc.cn。（Robin Zhang, 365PR Newswire）    （完）