【產(chǎn)通社，2月8日訊】首爾半導(dǎo)體（Seoul Semiconductor）網(wǎng)站消息，已經(jīng)和日亞科技（Nichia）在官司糾紛方面達(dá)成共識(shí)，并簽訂了交叉共享協(xié)議。

首爾半導(dǎo)體表示，雙方將停止在美國、德國、日本、英國、韓國所進(jìn)行的所有專利官司案件。本協(xié)議是包含著所有LED和LD(Laser Diode)技術(shù)的交叉共享，雙方將會(huì)彼此無限制地使用對(duì)方的專利。

按照協(xié)議條款，除了在德國進(jìn)行的DE 691-07-630 T2 (EP 0-437-385 B1)專利案件外，雙方將會(huì)停止所有專利案件，上述的德國專利案件將會(huì)在2009年2月裁定結(jié)束。

查詢進(jìn)一步信息，請?jiān)L問http://seoulsemiconductor.cn/cn/prCenter/news/view.asp?seq=54&queryString=。