【產(chǎn)通社，11月3日訊】中國賽寶實驗室（China CEPREI Laboratory）官網(wǎng)消息，工業(yè)和信息化部電子第五研究所計量檢測中心楊霖博士代表集成電路計量項目團隊參加2022國際先進光刻技術研討會（IWAPS）并作技術報告。IWAPS是由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟、中國光學學會、中國電子學會主辦的國際高端光刻技術研討會，每年組織國內外光刻技術領域資深專家，圍繞材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優(yōu)化等主題開展討論，分享最新研究成果，探討圖形化解決方案。

本次會議采用線上會議形式舉辦。會上，楊霖博士作了題為《A Traceable Diffraction-based Overlay Metrology Method: Target Design, Instrumentation and Analysis》的技術報告。該報告反映了可溯源的衍射型套刻精度（DBO）計量技術的研究成果，主要針對集成電路光刻工藝的關鍵參數(shù)“套刻精度”的精準測量控制需求進行研發(fā)。研究項目通過設計基于單層雙線光柵結構的專用高靈敏度標準芯片，研制可溯源的高精度專用計量標準儀器，實現(xiàn)了光刻工藝DBO參數(shù)的可溯源計量。

目前僅美國國家標準與技術研究院（NIST）開發(fā)了針對圖像型套刻精度（IBO）的可溯源計量技術，而國際上針對工業(yè)界更為先進的DBO計量技術則尚處于空白。楊霖博士團隊研究成果可為解決光刻工藝中DBO量測機臺的量值統(tǒng)一和匹配問題提供關鍵技術手段，有望填補相關領域的技術空白。

查詢進一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://www.ceprei.com。（Donna Zhang，張底剪報）    （完）