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深圳市隆利科技獲量子點膜及其裁切方法及背光模組等發(fā)明專利
2023/4/26 8:34:31     

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【產(chǎn)通社,4月26日訊】深圳市隆利科技股份有限公司(Shenzhen Longli Technology CO.,LTD.;股票代碼:300752)消息,其于近日收到由國家知識產(chǎn)權(quán)局頒發(fā)的三項發(fā)明專利證書,詳情如下:

量子點膜及其裁切方法及背光模組
授權(quán)公告號CN112099268B
專利號ZL202011049328.4
專利申請日2020年09月 29 日
授權(quán)公告日2023 年 04月 18 日

直下式發(fā)光裝置
授權(quán)公告號CN112799251B
專利號ZL202011577199.6
專利申請日2020年12月 28 日
授權(quán)公告日2023 年 04月 18 日

一種 mura補(bǔ)償?shù)闹毕率組ini-LED背光模組
授權(quán)公告號CN113281937B
專利號ZL202110459642.8
專利申請日2021年04月 27 日
授權(quán)公告日2023 年 04月 18 日

發(fā)明專利《量子點膜及其裁切方法及背光模組》提供一種背光模組的量子點膜及其裁切方法,通過自動注膠裝置將液態(tài)膠注射在量子點膜的裁切邊,并進(jìn)行固化,從而實現(xiàn)量子點膜裁切邊的密封,可以有效地降低量子點氧化失效的可能性,從而避免 Mini-LED 背光模組產(chǎn)生邊緣藍(lán)光現(xiàn)象。

發(fā)明專利《直下式發(fā)光裝置》提供直下式發(fā)光裝置的制作方法,通過利用內(nèi)設(shè)中空結(jié)構(gòu)、外設(shè)微光擴(kuò)散結(jié)構(gòu)的光學(xué)透鏡技術(shù),可以有效地解決亮暗不均及光斑問題,從而得到出光均勻的發(fā)光裝置,并且提高了光的利用效率。本發(fā)明可以用于 Mini-LED/Micro-LED 顯示技術(shù)中。

發(fā)明專利《一種 mura 補(bǔ)償?shù)闹毕率?nbspMini-LED 背光模組》提供一種 mura 補(bǔ)償?shù)闹毕率組ini-LED 背光模組,通過設(shè)置半透反射膜和微透鏡結(jié)構(gòu)面,從而達(dá)到光線的多次反射的效果,進(jìn)而消除燈斑(mura),以實現(xiàn) Mini-LED 背光模組有效地均勻出光。

查詢進(jìn)一步信息,請訪問官方網(wǎng)站http://www.blbgy.com。(Donna Zhang,張底剪報)    (完)
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