【產(chǎn)通社，11月8日訊】佳能公司（Canon）官網(wǎng)消息，其推出了一款重要工具，可以幫助制造最先進(jìn)的半導(dǎo)體。通過該設(shè)備，模上的精細(xì)電路圖案可以忠實地復(fù)制在晶片上。因此，復(fù)雜的二維或三維電路圖案可以在單個壓印中形成，這可以降低擁有成本(CoO)。

佳能的NIL技術(shù)能夠以最小14納米2的線寬進(jìn)行構(gòu)圖，相當(dāng)于生產(chǎn)目前最先進(jìn)的邏輯半導(dǎo)體所需的5納米節(jié)點。此外，隨著掩模技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，NIL有望實現(xiàn)最小線寬為10nm的電路圖案化，這對應(yīng)于2nm節(jié)點。

新產(chǎn)品采用新開發(fā)的環(huán)境控制技術(shù)，抑制設(shè)備中的微粒污染。這使得高精度對準(zhǔn)成為可能，這對于制造層數(shù)增加的半導(dǎo)體和減少由于微粒引起的缺陷是必要的，并且使得能夠形成精細(xì)和復(fù)雜的電路，有助于尖端半導(dǎo)體器件的制造。

由于新產(chǎn)品不需要用于精細(xì)電路的特殊波長的光源，因此與目前可用的最先進(jìn)的邏輯半導(dǎo)體(線寬為15納米的5納米節(jié)點)的光刻設(shè)備相比，它可以顯著降低功耗，從而有助于減少CO2。

除了邏輯和其他半導(dǎo)體器件之外，這種新產(chǎn)品還可用于廣泛的應(yīng)用，例如用于XRs的金屬透鏡，其微結(jié)構(gòu)為幾十納米。查詢進(jìn)一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://global.canon/en/news/2023/20231013.html。（Robin Zhang，產(chǎn)通數(shù)造）    （完）