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【產(chǎn)通社,11月17日訊】尼康精機(jī)(上海)有限公司(Nikon Corporation)官網(wǎng)消息,其推出了ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S625E。由于提高了產(chǎn)量和設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性,NSR-S625E實(shí)現(xiàn)了尼康半導(dǎo)體光刻設(shè)備歷史上最高的生產(chǎn)效率,可為各種半導(dǎo)體器件的高效生產(chǎn)做出貢獻(xiàn)。 產(chǎn)品特點(diǎn) 隨著應(yīng)用的多樣化和半導(dǎo)體需求的增多,客戶對(duì)半導(dǎo)體曝光系統(tǒng)的要求也變得越來越復(fù)雜和精密。尼康堅(jiān)持通過”伴走”活動(dòng),為客戶提供量身定制的解決方案。為了滿足客戶日益多樣化的需求,尼康決定通過開發(fā)ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S625E而擴(kuò)大其光刻機(jī)產(chǎn)品范圍。 新開發(fā)的NSR-S625E是在市場(chǎng)上有著10年銷售史的NSR-S622D后繼機(jī)。它提供相比大約1.3倍的產(chǎn)出量,大大改善了運(yùn)行穩(wěn)定性,此外還配有iAS,助力于各種半導(dǎo)體的高效生產(chǎn)。 供貨與報(bào)價(jià) 2024年2月發(fā)售。查詢進(jìn)一步信息,請(qǐng)?jiān)L問官方網(wǎng)站 http://www.nikon-precision.com.cn/news/。(張怡,產(chǎn)通發(fā)布) (完)
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