【產(chǎn)通社，11月17日訊】尼康精機(jī)（上海）有限公司（Nikon Corporation）官網(wǎng)消息，其推出了ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S625E。由于提高了產(chǎn)量和設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性，NSR-S625E實(shí)現(xiàn)了尼康半導(dǎo)體光刻設(shè)備歷史上最高的生產(chǎn)效率，可為各種半導(dǎo)體器件的高效生產(chǎn)做出貢獻(xiàn)。


產(chǎn)品特點(diǎn)


隨著應(yīng)用的多樣化和半導(dǎo)體需求的增多，客戶對(duì)半導(dǎo)體曝光系統(tǒng)的要求也變得越來越復(fù)雜和精密。尼康堅(jiān)持通過”伴走”活動(dòng)，為客戶提供量身定制的解決方案。為了滿足客戶日益多樣化的需求，尼康決定通過開發(fā)ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S625E而擴(kuò)大其光刻機(jī)產(chǎn)品范圍。

新開發(fā)的NSR-S625E是在市場(chǎng)上有著10年銷售史的NSR-S622D后繼機(jī)。它提供相比大約1.3倍的產(chǎn)出量，大大改善了運(yùn)行穩(wěn)定性，此外還配有iAS，助力于各種半導(dǎo)體的高效生產(chǎn)。


供貨與報(bào)價(jià)


2024年2月發(fā)售。查詢進(jìn)一步信息，請(qǐng)?jiān)L問官方網(wǎng)站http://www.nikon-precision.com.cn/news/。（張怡，產(chǎn)通發(fā)布）    （完）