【產(chǎn)通社，4月1日訊】Gigaphoton株式會(huì)社官網(wǎng)消息，其子最新的ArF浸沒(méi)式光刻光源“GT80A”已經(jīng)發(fā)貨。


產(chǎn)品特點(diǎn)


在最先進(jìn)設(shè)備的制造中，隨著規(guī)模的擴(kuò)大，需要高生產(chǎn)率。最新設(shè)備必須滿足轉(zhuǎn)移到晶片上的光刻圖案的要求，特別是EPE（邊緣位置誤差）和高生產(chǎn)率。作為光源，通過(guò)降低直接影響EPE的CD LER/LWR（線邊緣粗糙度/線寬粗糙度），GT80A提高了大規(guī)模生產(chǎn)場(chǎng)所的產(chǎn)量。

新的浸沒(méi)式光刻光源“GT80A”通過(guò)新開(kāi)發(fā)的模塊成功地將重復(fù)率提高了12.5%。與GT65A相比，斑點(diǎn)對(duì)比度降低了36%，有助于進(jìn)一步降低LWR/CDU。這些進(jìn)步有助于進(jìn)一步提高工藝成品率，并支持前沿節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)的高生產(chǎn)率。


供貨與報(bào)價(jià)


GT80A已被引入半導(dǎo)體市場(chǎng)，目標(biāo)是在最先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)中實(shí)現(xiàn)尖端半導(dǎo)體的穩(wěn)定和高產(chǎn)率生產(chǎn)。查詢進(jìn)一步信息，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)官方網(wǎng)站http://www.GIGAPHOTON.com。（張怡，產(chǎn)通發(fā)布）     （完）