【產(chǎn)通社，3月23日訊】應(yīng)用材料公司（Applied Materials, Inc.）官網(wǎng)消息，其全新等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）薄膜技術(shù)用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自應(yīng)用材料公司業(yè)界領(lǐng)先的AKT-PECVD系統(tǒng)的先進(jìn)絕緣薄膜，使得基于金屬氧化物的晶體管的應(yīng)用成為可能，制造出尺寸更小、開關(guān)速度更快的像素，從而幫助客戶推出更受消費(fèi)者歡迎的高分辨率顯示屏。

“顯示屏制造企業(yè)正在積極投資金屬氧化物晶體管技術(shù)，我們先進(jìn)的PECVD系統(tǒng)提供的薄膜技術(shù)可以解決這些復(fù)雜介質(zhì)薄膜的均勻性和穩(wěn)定性問題，消除了這一重要新技術(shù)應(yīng)用的主要障礙�！睉�(yīng)用材料公司集團(tuán)副總裁兼AKT顯示事業(yè)部總經(jīng)理Tom Edman表示，“通過在我們世界一流的AKT-PECVD系統(tǒng)上增添金屬氧化物介質(zhì)薄膜沉積功能，應(yīng)用材料公司為客戶提供了一個(gè)經(jīng)濟(jì)有效的途徑，幫助將這一新技術(shù)推向市場。在我們的系統(tǒng)上使用了這些新薄膜技術(shù)的客戶，已經(jīng)取得了很好的成果。目前，各大顯示屏制造企業(yè)對新系統(tǒng)以及系統(tǒng)升級的需求非常強(qiáng)勁�！�

產(chǎn)品特點(diǎn)

全新PECVD設(shè)備沉積絕緣介電薄膜，為金屬氧化物晶體管提供了一個(gè)良好的層間界面，從而最大限度地減少了氫雜質(zhì)，提高了晶體管的穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)了顯示屏的優(yōu)化性能。這些高質(zhì)量的二氧化硅（SiO2）薄膜可通過AKT-PECVD系統(tǒng)高度均勻地沉積到尺寸達(dá)9平方米的玻璃基板上，此工藝性能對于面板制造客戶獲得高產(chǎn)品良率和低制造成本至關(guān)重要。

除了全新推出的PECVD薄膜之外，應(yīng)用材料公司目前還在開發(fā)用于金屬氧化物制造的先進(jìn)物理氣相沉積（PVD）解決方案，包括銦鎵鋅氧化物（IGZO）沉積。應(yīng)用材料公司借助其最新的旋轉(zhuǎn)式陰極陣列技術(shù)，實(shí)現(xiàn)高度均勻、各向同質(zhì)和低缺陷的半導(dǎo)體薄膜的沉積，相比現(xiàn)有的PVD解決方案，具有更高的生產(chǎn)效率和更低的原料消耗成本。

供貨與報(bào)價(jià)

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