【產(chǎn)通社，7月25日訊】上海華力微電子有限公司（Shanghai Huali Microelectronics Corporation）官網(wǎng)消息，亞洲規(guī)模最大、最全面的世界級半導(dǎo)體技術(shù)年度盛會——中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會（CSTIC 2020）開幕主題演講于6月29日順利召開，華力共發(fā)表60余篇論文，重點關(guān)注制造和先進(jìn)技術(shù)，內(nèi)容涵蓋集成電路設(shè)計、半導(dǎo)體器件與集成、光刻、刻蝕、CMP、薄膜、Wet、離子注入等各項工藝技術(shù)。

其中，數(shù)篇論文主題探討28nm和SOI等工藝技術(shù)，彰顯華力在先進(jìn)工藝技術(shù)上精益求精的初心，致力于提供客戶優(yōu)化的芯片制造解決方案。

查詢進(jìn)一步信息，請訪問官方網(wǎng)站http://www.hlmc.cn。（Robin Zhang, 365PR Newswire）    （完）