為貫徹實(shí)施《國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要（2006—2020年）》（以下簡(jiǎn)稱《規(guī)劃綱要》），掌握裝備制造業(yè)和信息產(chǎn)業(yè)核心技術(shù)的自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，攻克一批事關(guān)國(guó)家戰(zhàn)略利益的信息產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)，研制一批具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的重大裝備和關(guān)鍵產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)自主創(chuàng)新與跨越發(fā)展，根據(jù)國(guó)務(wù)院發(fā)布的《實(shí)施〈國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要（2006—2020年）〉若干配套政策》的要求，信息產(chǎn)業(yè)部、科技部、國(guó)家發(fā)展改革委共同制訂《我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的關(guān)鍵技術(shù)和重要產(chǎn)品目錄》（以下簡(jiǎn)稱“目錄”）。

　　自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，是指我國(guó)的權(quán)利人具有獨(dú)立支配權(quán)或相對(duì)控制權(quán)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，即我國(guó)的公民、法人或非法人單位，所依法擁有的、可以獨(dú)立地行使知識(shí)產(chǎn)權(quán)各項(xiàng)權(quán)能的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，或雖然不擁有所有權(quán)，但在一個(gè)較長(zhǎng)的時(shí)期內(nèi)可以獨(dú)立行使知識(shí)產(chǎn)權(quán)各項(xiàng)權(quán)能，并能不受他人制約地進(jìn)行集成創(chuàng)新和引進(jìn)消化吸收再創(chuàng)新的知識(shí)產(chǎn)權(quán)。自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的來(lái)源方式主要包括：自主研發(fā)或設(shè)計(jì)；受讓或受贈(zèng)；企業(yè)并購(gòu)或重組；獲得5年以上的獨(dú)占許可。

　　關(guān)鍵技術(shù)，是指對(duì)突破我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展瓶頸，提高信息產(chǎn)業(yè)設(shè)計(jì)制造水平，培育新產(chǎn)品和新業(yè)務(wù)，提升信息產(chǎn)業(yè)自主開發(fā)能力和整體技術(shù)水平，促進(jìn)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造，加速國(guó)家信息化建設(shè)，增強(qiáng)國(guó)防實(shí)力，保障國(guó)家信息安全具有決定性作用的基礎(chǔ)技術(shù)、共性技術(shù)和重大應(yīng)用技術(shù)。

　　重要產(chǎn)品，是指技術(shù)先進(jìn)，具備一定的產(chǎn)業(yè)化發(fā)展基礎(chǔ)，市場(chǎng)需求廣、潛力大，附加值高，可擴(kuò)展性強(qiáng)，易用性好，成本低，對(duì)顯著提升我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)全球產(chǎn)業(yè)分工地位、國(guó)際貿(mào)易中的競(jìng)爭(zhēng)力具有重大作用的產(chǎn)品，其中也包括在較先進(jìn)技術(shù)基礎(chǔ)上推出的服務(wù)產(chǎn)品。

　　目錄依據(jù)四項(xiàng)原則選取關(guān)鍵技術(shù)和重要產(chǎn)品：
　　（1）戰(zhàn)略需求原則：面向建設(shè)創(chuàng)新型國(guó)家和提升信息產(chǎn)業(yè)自主創(chuàng)新能力的戰(zhàn)略需求，貫徹落實(shí)《規(guī)劃綱要》的戰(zhàn)略部署，有利于解決事關(guān)我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)性和戰(zhàn)略性問(wèn)題。
　　（2）重點(diǎn)突破原則：圍繞信息產(chǎn)業(yè)科技發(fā)展“十一五”規(guī)劃目標(biāo)，針對(duì)發(fā)展瓶頸，面向重大應(yīng)用，有利于實(shí)現(xiàn)對(duì)信息產(chǎn)業(yè)跨越發(fā)展有重要影響的技術(shù)突破，有利于促進(jìn)對(duì)市場(chǎng)空間大、經(jīng)濟(jì)效益高有重大作用的產(chǎn)品發(fā)展。
　�。�3）自主創(chuàng)新原則：鼓勵(lì)原始創(chuàng)新，加強(qiáng)集成創(chuàng)新和引進(jìn)消化吸收再創(chuàng)新，有利于提高關(guān)鍵技術(shù)和重要產(chǎn)品自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的數(shù)量和質(zhì)量。
　�。�4）國(guó)家安全原則 ：保護(hù)國(guó)家安全、維護(hù)公眾利益，健全產(chǎn)品、網(wǎng)絡(luò)和信息安全保障體系，有利于實(shí)現(xiàn)國(guó)家信息基礎(chǔ)設(shè)施和重要信息系統(tǒng)的自主可控。

　　目錄的編制以《規(guī)劃綱要》中涉及信息產(chǎn)業(yè)的重點(diǎn)任務(wù)為基礎(chǔ)，結(jié)合《信息產(chǎn)業(yè)科技發(fā)展“十一五”規(guī)劃和2020年中長(zhǎng)期規(guī)劃》以及《信息產(chǎn)業(yè)“十一五”規(guī)劃》確定的指導(dǎo)思想、發(fā)展目標(biāo)和重點(diǎn)任務(wù)，凝煉出13個(gè)重點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域：集成電路，軟件，電子元器件和材料，顯示器件，光電器件和材料，電子專用裝備及儀器，計(jì)算機(jī)及設(shè)備，互聯(lián)網(wǎng)與通信，新一代寬帶無(wú)線移動(dòng)通信，數(shù)字音視頻，網(wǎng)絡(luò)和信息安全，導(dǎo)航、遙測(cè)、遙控、遙感，信息技術(shù)應(yīng)用。

　　本目錄按“技術(shù)領(lǐng)域、關(guān)鍵技術(shù)、重要產(chǎn)品”進(jìn)行編制，包括已擁有和未來(lái)應(yīng)掌握自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的關(guān)鍵技術(shù)和重要產(chǎn)品。關(guān)鍵技術(shù)和重要產(chǎn)品在同一領(lǐng)域分別列出，兩者之間不具有一一對(duì)應(yīng)關(guān)系。根據(jù)信息技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，充分結(jié)合我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的需求，本目錄將適時(shí)更新，定期發(fā)布，第一批目錄以“十一五”末期（2010年）的發(fā)展目標(biāo)為重點(diǎn)。

　　國(guó)家科技計(jì)劃和建設(shè)投資將對(duì)列入目錄的技術(shù)和產(chǎn)品的研制及產(chǎn)業(yè)化予以重點(diǎn)支持。對(duì)開發(fā)目錄中技術(shù)和產(chǎn)品的企業(yè)在專利申請(qǐng)、標(biāo)準(zhǔn)制定、國(guó)際貿(mào)易和合作等方面予以支持，以形成一批擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)、知名品牌和較強(qiáng)國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的優(yōu)勢(shì)企業(yè)。

我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的關(guān)鍵技術(shù)和重要產(chǎn)品目錄（第一批） 

技術(shù)領(lǐng)域	關(guān)鍵技術(shù)	重要產(chǎn)品
電子專用裝備及儀器	1)        193nm波長(zhǎng)的ArF光源的浸潤(rùn)式光刻技術(shù) 2)        EUV光刻設(shè)備技術(shù) 3)        90～65nm水平等離子刻蝕設(shè)備技術(shù) 4)        薄膜淀積設(shè)備技術(shù) 5)        化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP）設(shè)備技術(shù) 6)        超淺結(jié)低能摻雜設(shè)備技術(shù) 7)        兆聲波清洗技術(shù) 8)        等離子清洗技術(shù) 9)        高速精密主軸技術(shù)、 10)    精密劃切與刀體運(yùn)動(dòng)精密控制技術(shù) 11)    高速/高效引線鍵合技術(shù) 12)    金屬有機(jī)物化學(xué)汽相淀積設(shè)備（MOCVD）制造技術(shù) 13)    光刻分辨率增強(qiáng)技術(shù) 14)    裝備工藝缺陷控制技術(shù) 15)    超精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)技術(shù) 16)    離子光學(xué)仿真與設(shè)計(jì)技術(shù) 17)    等離子體多物理場(chǎng)仿真與設(shè)計(jì)技術(shù) 18)    超精密光學(xué)加工與表面檢測(cè)技術(shù) 19)    特種精密機(jī)械零件加工技術(shù) 20)    電子儀器專用高速DSP設(shè)計(jì)/制造技術(shù)、高速D/A轉(zhuǎn)換技術(shù)、系統(tǒng)集成技術(shù)、高速ASIC技術(shù)、軟件技術(shù) 21)    實(shí)時(shí)I/Q 基帶信號(hào)產(chǎn)生和調(diào)制技術(shù) 22)    MPEG-X技術(shù)、DVB技術(shù) 23)    高分辨率、低相噪頻率合成技術(shù) 24)    數(shù)字化射頻、中頻技術(shù) 25)    虛擬儀器技術(shù) 26)    高性能、超寬帶矢量頻率捷變發(fā)生與分析技術(shù) 27)    寬帶微波/毫米波技術(shù) 28)    測(cè)試誤差模型修正技術(shù) 29)    總線應(yīng)用技術(shù)	1)        用于≤100nm線寬集成電路制造的光刻設(shè)備 2)        用于≤100nm線寬集成電路制造的等離子體刻蝕設(shè)備 3)        用于≤100nm線寬集成電路制造的薄膜生長(zhǎng)設(shè)備（含CVD、PVD、ALD、VPE、MBE、ECP等） 4)        用于≤100nm線寬集成電路制造的平坦化設(shè)備（含CMP、SFP） 5)        用于≤100nm線寬集成電路制造的摻雜處理設(shè)備（含離子注入機(jī)、高溫?cái)U(kuò)散爐、快速熱處理設(shè)備等） 6)        用于≤100nm線寬集成電路制造的化學(xué)處理設(shè)備（含清洗、化學(xué)腐蝕設(shè)備等） 7)        8～12英寸集成電路后封裝設(shè)備及模具（含減薄、劃片、粘片、鍵合等） 8)        超大規(guī)模集成電路測(cè)試系統(tǒng)及檢測(cè)設(shè)備（含各種在線檢測(cè)設(shè)備） 9)        8～12英寸硅材料制備設(shè)備 10)    硅基、化合物、寬禁帶半導(dǎo)體關(guān)鍵制造設(shè)備 11)    金屬有機(jī)物化學(xué)汽相淀積設(shè)備（MOCVD） 12)    5代及以上TFT-LCD生產(chǎn)線制造設(shè)備 13)    小型鋰離子二次電池、太陽(yáng)能電池（含薄膜太陽(yáng)能電池）關(guān)鍵制造設(shè)備 14)    無(wú)鉛工藝的表面貼裝設(shè)備（含檢測(cè)設(shè)備） 15)    微波/毫米波測(cè)試儀器 16)    LXI測(cè)試儀器和系統(tǒng) 17)    數(shù)字存儲(chǔ)示波器 18)    頻譜測(cè)試儀器 19)    電子干擾場(chǎng)強(qiáng)測(cè)試儀器 20)    網(wǎng)絡(luò)測(cè)試儀器 21)    新型電子元器件及顯示器件測(cè)試儀器

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