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原子力顯微鏡的應(yīng)用
2010/9/28 16:13:45    boyuesh021cd
顯微鏡應(yīng)用
顯微鏡應(yīng)用是一種較廣泛較普遍的表面結(jié)構(gòu)和粗糙度的測(cè)量用途。對(duì)于開始學(xué)習(xí)MetroPro®軟件及建立自己特有的實(shí)際應(yīng)用非常有利。
 
高級(jí)紋理應(yīng)用
高級(jí)紋理應(yīng)用主要是提供完整的操控、制圖、及結(jié)果,用于測(cè)量及量化被測(cè)部分的表面紋理。表面的測(cè)量還取決于表層材質(zhì),包括磁盤驅(qū)動(dòng)介質(zhì),磁帶,機(jī)加工的金屬及薄膜。任何希望被可視化和測(cè)量的組件的表面紋理都可使用。
 
磁盤Dub-off應(yīng)用
DUB OFF:頻率響應(yīng)滾降,是指一種表面弧形處理,用于消減滾動(dòng)體和滾道之間的壓力。
磁盤Dub-off應(yīng)用是設(shè)計(jì)用來測(cè)量硬盤的dub-off值的。Dub-off 是指磁盤邊緣的弧形區(qū)域及高速飛轉(zhuǎn)的區(qū)域。 Dub-off 也叫 roll-off. 根據(jù)國際磁盤機(jī)器材及原料協(xié)會(huì)規(guī)定,roll-off是指:倒角上名義表面延伸而產(chǎn)生的負(fù)面偏差并在高速飛轉(zhuǎn)的區(qū)域的邊緣繼續(xù)發(fā)展。該應(yīng)用需要一個(gè)2.5倍或更低倍的放大物鏡,能檢測(cè)磁盤邊緣的一個(gè)斷面。
 
邊緣融合應(yīng)用
邊緣融合應(yīng)用是用來測(cè)量滑塊溝槽/軌道區(qū)域的,測(cè)量空氣軸承的表面是否能契合溝槽/軌道的邊緣。報(bào)告可提供有關(guān)這兩個(gè)結(jié)合表面的定量結(jié)果?梢詼y(cè)量溝槽/軌道一邊的截面。該應(yīng)用需要一個(gè)20X, 40X, 或 50X Mirau物鏡。
 
針尖衰退應(yīng)用
針尖衰退應(yīng)用是設(shè)計(jì)用于測(cè)量讀/寫磁頭的針尖特性的,尤其是薄膜滑塊領(lǐng)域。針尖衰退應(yīng)用測(cè)量的是在空氣軸承表面以下針尖的衰減,底層的衰減或蝕刻區(qū)域的衰減,以及其他與針尖有關(guān)的參數(shù)。
 
休整針尖衰退應(yīng)用
休整針尖衰退應(yīng)用是設(shè)計(jì)用于測(cè)量被裁減或蝕刻的讀/寫磁頭的特性。該應(yīng)用主要用于測(cè)量針尖的衰退,對(duì)于被蝕刻的和未被蝕刻的玻璃區(qū)域,墻壁角,以及其他有關(guān)的參數(shù)。
 
臺(tái)階高度應(yīng)用
臺(tái)階高度應(yīng)用是用來精確測(cè)量垂直臺(tái)階的,包括:加工后的金屬及玻璃上的臺(tái)階,蝕刻的表面,有圖案的半導(dǎo)體芯片,國家技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)局的溯源臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)。臺(tái)階必須相互毗連,不能通過材料來測(cè)量厚度。
 
尖扁銼應(yīng)用
尖扁銼應(yīng)用是用來測(cè)量滑塊溝槽/軌道的錐形扁平或斜坡的。尖扁銼是每個(gè)滑塊溝槽/軌道的前緣的短區(qū),這部分是典型的在空氣軸承表面的微角。需要一個(gè)10X的物鏡。
 
墻壁角應(yīng)用
MetroPro®墻壁角應(yīng)用是特別為測(cè)量橫向壓力輪廓滑塊(單向臺(tái)階)而設(shè)計(jì)的,如下圖所示。能提供全面的測(cè)試結(jié)果,關(guān)于在空氣軸承表面和臺(tái)階之間臺(tái)階范圍內(nèi)的寬度和墻的角度。墻壁角應(yīng)用需要一個(gè)10X Mirau物鏡并且可以檢測(cè)溝槽/軌道。
 
ABS幾何學(xué)應(yīng)用
使用顯微鏡,MetroPro®空氣軸承表面幾何應(yīng)用在硬盤驅(qū)動(dòng)中為多種讀/寫滑塊的幾何測(cè)量提供了一個(gè)完整的解決方案。本手冊(cè)包含了ABS幾何應(yīng)用的幾種配置。分析自動(dòng)定位測(cè)量區(qū)域,多方位顯示滑塊畫面,提供大量的數(shù)據(jù)結(jié)果及統(tǒng)計(jì)過程控制輸出。
 
縫合應(yīng)用
MetroPro®縫合應(yīng)用是設(shè)計(jì)用來測(cè)量和分析更大面積的表面形態(tài)特征的,而不僅僅只是一個(gè)單個(gè)的測(cè)量?p合是將被測(cè)部件進(jìn)行多次測(cè)量,由機(jī)械化的臺(tái)階移動(dòng),然后將多個(gè)數(shù)據(jù)集合并/縫合成一個(gè)整體。這樣就非常有效地?cái)U(kuò)大了視野范圍而并沒有在橫向或縱向解決方案上進(jìn)行妥協(xié)。屏幕上顯示的圖形和結(jié)果是基于整個(gè)被測(cè)區(qū)域的。
 
復(fù)合曲面應(yīng)用
MetroPro®復(fù)合曲面應(yīng)用可提供一套完整的控制、制圖以及結(jié)果,用于區(qū)分被測(cè)部件表面上的目標(biāo)區(qū)域。簡(jiǎn)單地說,就是用來將復(fù)合的被測(cè)區(qū)域分割或劃分成單個(gè)的數(shù)據(jù)集。一旦建立該操作設(shè)置,類似的部件可以進(jìn)行測(cè)量且被測(cè)區(qū)域自動(dòng)分離出來。
 
交叉陰影應(yīng)用
交叉陰影應(yīng)用是用來評(píng)估過程中產(chǎn)生的相對(duì)強(qiáng)度,產(chǎn)生清晰的表面結(jié)構(gòu)方向。產(chǎn)生交叉結(jié)構(gòu),頻率及振幅,對(duì)于測(cè)量該過程的一致性,該應(yīng)用是一款非常的卓越的工具。既可用于工藝過程開發(fā),也可用于生產(chǎn)過程控制。
 
薄膜分析
薄膜分析應(yīng)用是設(shè)計(jì)用于測(cè)量薄膜表面特征的?商峁┍∧さ纳蠈颖砻嫘蚊,粗糙度和厚度,低層或底層表面的表面形貌及粗造度。薄膜分析還帶有一個(gè)特殊的FDA分析功能,分析多重強(qiáng)度調(diào)制信號(hào)來確定底層材料及薄膜表面。
 
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