【產(chǎn)通社，4月26日訊】應(yīng)用材料公司（Applied Materials, Inc.）官網(wǎng)消息，其Centura Tetra Z光罩蝕刻系統(tǒng)將多重曝影尺寸繼續(xù)精進(jìn)縮放至10納米以下。應(yīng)用材料公司領(lǐng)先業(yè)界的Tetra平臺(tái)，透過新機(jī)臺(tái)而再次擴(kuò)充功能，提供所需的線寬（CD）參數(shù)“�！保╝ngstrom）等級光罩精密度，滿足未來邏輯與內(nèi)存裝置嚴(yán)苛的圖案制程規(guī)格。

應(yīng)用材料公司光罩蝕刻產(chǎn)品處總經(jīng)理瑞歐．耶拉曼奇里（Rao Yalamanchili）表示：“我們的Tetra Z系統(tǒng)是最先進(jìn)的光罩蝕刻技術(shù)，運(yùn)用精密材料工程及電漿反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的的精進(jìn)科技，擴(kuò)充了193納米微影術(shù)的應(yīng)用。使用193納米波長來制作10納米或7納米的圖案，需要各種優(yōu)化技術(shù)，包括浸潤與多重曝影，高度仰賴光罩的運(yùn)用。蝕刻技術(shù)是制造光罩的關(guān)鍵；Tetra Z系統(tǒng)的與眾不同之處，在于能為新一代光學(xué)光罩的蝕刻，提供所需的精確度，制作先進(jìn)節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)的圖案�！�

應(yīng)用材料公司針對進(jìn)階的鉻、硅化鉬（MoSI）、硬質(zhì)光阻層和石英（熔硅石）蝕刻應(yīng)用，開發(fā)了Tetra Z工具，以制造先進(jìn)的二元式與相位移光罩（phase-shift masks）。優(yōu)越的系統(tǒng)展現(xiàn)了持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新與前所未見的線寬（CD）效能，將浸潤式微影術(shù)延伸應(yīng)用于四重曝影與先進(jìn)的分辨率強(qiáng)化技術(shù)。用以確保圖形轉(zhuǎn)移保真度的重要功能，包括了針對所有特征尺寸進(jìn)行均勻的線性精密蝕刻，以及近乎零缺陷的圖案密度。

卓越的CD效能結(jié)合高蝕刻選擇比，得以運(yùn)用更薄的光阻，在重要的裝置層上制作更小的光罩CD圖案�？煽刂频腃D偏差功能，擴(kuò)展了系統(tǒng)的彈性，能滿足客戶的特定需求。獨(dú)一無二的石英蝕刻深度控制技術(shù)，可確保精密的相位角度，也能讓客戶使用交替式光圈相位移光罩與無鉻相位微影術(shù)，推動(dòng)集成電路的尺寸縮放制程。種種的關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)展，來自于各種系統(tǒng)改良，包括反應(yīng)室的設(shè)計(jì)、電漿穩(wěn)定性、離子與自由基控制、流量與壓力控制，以及實(shí)時(shí)制程監(jiān)控。

過去十年來，全球大多數(shù)的光罩制造商皆選用應(yīng)用材料公司的Tetra系統(tǒng)，來進(jìn)行高階光罩的蝕刻。應(yīng)用材料公司是全球前五百大公司之一，專為半導(dǎo)體、平面顯示、太陽光電產(chǎn)業(yè)提供精密材料工程解決方案。應(yīng)用材料公司的創(chuàng)新技術(shù)可協(xié)助諸如智能型手機(jī)、平面電視及太陽能電池更具成本效益，更方便使用。查詢進(jìn)一步信息，請?jiān)L問官方網(wǎng)站http://www.appliedmaterials.com。