【產(chǎn)通社，12月30日訊】應(yīng)用材料公司（Applied Materials, Inc.）官網(wǎng)消息，其Applied SEMVision G5系統(tǒng)是第一款可供芯片制造商用于無(wú)人生產(chǎn)環(huán)境的缺陷檢測(cè)工具，能拍攝并分析20奈米影響良率的缺陷。SEMVision G5獨(dú)特的功能可識(shí)別并拍攝1奈米畫素的缺陷，協(xié)助邏輯與內(nèi)存客戶改善制程，比過(guò)去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。

應(yīng)用材料公司企業(yè)副總裁暨制程診斷與控制事業(yè)處總經(jīng)理依泰‧羅森費(fèi)德 (Itai Rosenfeld)表示：“SEMVision G5系統(tǒng)優(yōu)異的影像功能及全自動(dòng)的作業(yè)方式，提升客戶競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，協(xié)助他們縮短產(chǎn)品上市的時(shí)間，逢此當(dāng)今快速發(fā)展的電子產(chǎn)業(yè)中能滿足縮短產(chǎn)品周期的需求，至為重要。我們已將多套SEMVision G5系統(tǒng)出貨給客戶，多家客戶也再次采購(gòu)�？蛻艨焖俨捎眠@套產(chǎn)品，由此可見(jiàn)產(chǎn)品價(jià)值及我們?cè)谶@項(xiàng)芯片制造關(guān)鍵技術(shù)持續(xù)三十年的領(lǐng)導(dǎo)地
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產(chǎn)品特點(diǎn)

SEMVision G5系統(tǒng)配備最先進(jìn)的1奈米畫素、無(wú)與倫比的影像質(zhì)量及強(qiáng)大的分析引擎，是唯一的缺陷檢測(cè)掃描電子顯微鏡，能夠在極其困難的線路層上，一邊進(jìn)行識(shí)別、分析及發(fā)現(xiàn)缺陷，卻同時(shí)能提高產(chǎn)出。

另外，這套系統(tǒng)在區(qū)別真假警訊或真假缺陷方面樹(shù)立了全新的標(biāo)竿，在測(cè)試中，這套系統(tǒng)遠(yuǎn)比專業(yè)的操作員更為準(zhǔn)確而快速，能讓客戶更快更常檢查更多晶圓，學(xué)習(xí)曲線更加速、提升良率也更迅速。

突破性的SEMVision G5為開(kāi)放架構(gòu)平臺(tái)，具有已定義之檢測(cè)策略鏈接庫(kù)，可動(dòng)態(tài)結(jié)合接收自晶圓檢查系統(tǒng)的數(shù)據(jù)。此系統(tǒng)可自動(dòng)建立新的檢測(cè)程序，這是超越其他競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手工具的主要優(yōu)勢(shì)，因?yàn)槠渌麖S商的工具需要以耗時(shí)的手動(dòng)設(shè)定程序，針對(duì)每一種芯片類型分別建立檢測(cè)方式。這項(xiàng)功能對(duì)于晶圓代工客戶至為關(guān)鍵，因?yàn)樗麄儽仨氃诿磕曛圃斓臄?shù)千種新芯片設(shè)計(jì)中達(dá)到良好的產(chǎn)能。

供貨與報(bào)價(jià)

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