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1. 在晶圓級大規(guī)模生產(chǎn)中引入脈沖激光沉積（PLD）技術 0
2. 新UV光刻機專利顯著提高能效并降低半導體制造成本 0
3. 了解雙極結型晶體管（BJT）的開關特性 0
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5. 技術調(diào)查官參與專利、集成電路布圖設計侵權糾紛行政裁決辦案的… 0
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7. 臺積電（tsmc）主要原物料供貨商及市場采購策略 0
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